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掩膜版烘烤機,光罩版恒溫?zé)岚?  width=

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簡要描述:

掩膜版烘烤機,光罩版恒溫?zé)岚暹m用于半導(dǎo)體光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。

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   在集成電路制造領(lǐng)域,光刻技術(shù)被用來將圖案從包含電路設(shè)計信息的光刻掩膜版上轉(zhuǎn)移到晶圓(wafer)上,其中的光刻掩膜版(mask),也稱為光刻版、掩膜版或者光罩,是一種對于曝光光線具有透光性的平板,其上具有對于曝光光線具有遮光性的至少一個幾何圖形,所述幾何圖形為設(shè)計圖形,可實現(xiàn)有選擇的遮擋照射到晶片表面光刻膠上的光,并最終在晶圓表面的光刻膠上形成相應(yīng)的圖案。

掩膜版烘烤機,光罩版恒溫?zé)岚?/strong>技術(shù)參數(shù)

溫度分辨率 :0.1℃  

溫度波動度:≤±0.5℃        

溫度均勻性:≤±1%℃

電源輸入:AC220V 10A         

加熱功率:600/1500W......

控溫范圍:RT~200/300/400/500/600℃     

頂蓋:SUS304不銹鋼

密封性:保證腔體溫度的穩(wěn)定性,頂蓋接口處密封處理

加熱面板材料:陽極鋁合金,度陶瓷面板,耐高溫不銹鋼

加熱區(qū):

160*160

220*220

280*200

520*260等多尺寸,可定制

可定制:

分體式;

真空加熱臺;

頂針自動控制;

PIN孔+PIN;

氮氣保護......


  恒溫?zé)岚逵糜诠袒饪棠z,固化環(huán)氧塑脂,可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。適用于半導(dǎo)體光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核等工藝。工業(yè)各行業(yè)恒溫加熱樣品的烘焙、干燥和作其他溫度試驗,是生物、遺傳、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實驗室、分析室、教學(xué)研究的的工具

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