一、HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù)： 電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2% 輸入功率：2400W 控溫范圍：室溫+10℃-250℃ 溫度分辨率：0.1℃ 溫度波動度：±0.5℃ 達(dá)到真空度：133Pa 容積：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450（可選擇） 載物托架：2塊 二、HMDS真空烤箱的使用優(yōu)點(diǎn) 1、JS-HMDS真空烤箱預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個(gè)容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低，所以有著更好的處理效果。 2、處理更加均勻，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。 3、效率高，液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。 4、更加節(jié)省藥液，實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多； 5、更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會對環(huán)境造成污染。
