碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中氮化鎵(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化鎵等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用
HMDS烘箱真空泵,IDP10無油泵泵具有密封設(shè)計(jì),電機(jī)和軸承與真空環(huán)路全隔離,延長(zhǎng)了軸承的使用壽命,并提供潔凈、無油的真空條件。IDP 泵采用單面渦旋設(shè)計(jì),可通過簡(jiǎn)單的工具在 15 分鐘內(nèi)完成維護(hù)操作。可選的集成式隔離閥防止意外污染,并且不會(huì)額外增加泵的高度。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
HMDS烤箱,HMDS真空烘箱將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤,再進(jìn)行HMDS處理,不需要從箱內(nèi)傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有更好的處理效果。