等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀應(yīng)用領(lǐng)域：
　　1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片
　　2、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力
　　3、去除金屬材料表面的氧化物
　　4、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化，增強(qiáng)其表面粘附性、浸潤性、相容性
　　5、高分子材料表面修飾
等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀簡(jiǎn)介：
     是一種表面處理設(shè)備， 用氣體作為處理介質(zhì)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對(duì)固體樣品表面進(jìn)行相互作用，引起分子結(jié)構(gòu)改變，從而對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對(duì)環(huán)境和樣品帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面，短時(shí)間就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗能力達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗機(jī)可對(duì)樣品的表面改性，加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤性，也可對(duì)樣品消毒和殺菌。
結(jié)構(gòu)：
　　設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體，利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到所需工藝的真空度，再在高頻發(fā)生器的作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)）。高頻發(fā)生器提供能量使氣體電離成等離子態(tài)。等離子態(tài)顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的色彩可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。
　　真空腔的設(shè)置具有很強(qiáng)的靈活性，腔內(nèi)有可調(diào)節(jié)層極板插槽，根據(jù)需要每個(gè)插槽內(nèi)的極板都可以設(shè)置為獨(dú)立的陽極、陰極。也可以根據(jù)需要來調(diào)整極板間的距離，來達(dá)到不同的工藝效果。由于勻氣腔、抽氣口、以及陽極、陰極極結(jié)構(gòu)*的氣流設(shè)計(jì)。
主要技術(shù)指標(biāo)：
　　l、電源：220V 50Hz 1.5KW
　　2、整機(jī)尺寸：（長(zhǎng)×寬×高） 620×550×1630mm
　　3、反應(yīng)室尺寸：（長(zhǎng)×寬×高）450×450×300mm
　　4、射頻電源：13.56MHz；0～500W連續(xù)可調(diào)
　　5、zui大負(fù)荷電流：10ARMS
　　6、zui大負(fù)荷電壓：200VRMS
　　7、傳輸效率：>90％
　　8、全自動(dòng)匹配
　　9、匹配時(shí)間：3～5s
　　l0、可匹配阻抗實(shí)部范圍：1～500Ω
　　l1、可匹配阻抗虛部范圍：－j200～＋j200
　　l2、主電容：空氣電容
　　l3、起輝真空度：約-100KPa左右
　　l4、冷卻方式：風(fēng)冷
　　l5、真空腔：鋁腔
　　l6、電極：陰極、陽極。兩極之間zui大距離50mm；可調(diào)節(jié)
　　l7、氣體流量：國產(chǎn)質(zhì)量流量計(jì)，量程為：0-2L/min和0-5L/min
　　l8、配4升機(jī)械泵
　　l9、整機(jī)采用松下plc、觸摸屏控制